著錄信息
- 專(zhuān)利名稱(chēng)：雙柵MOS結(jié)構(gòu)的功率晶體管
- 專(zhuān)利類(lèi)型：實(shí)用新型
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN201420134117.4
- 公開(kāi)(公告)號(hào)：CN203774335U
- 申請(qǐng)日：20140324
- 公開(kāi)(公告)日：20140813
- 申請(qǐng)人：江蘇宏微科技股份有限公司
- 發(fā)明人：張景超,戚麗娜,劉利峰,王曉寶,趙善麒
- 申請(qǐng)人地址：213022 江蘇省常州市新北區(qū)華山中路18號(hào)
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN320411
- 專(zhuān)利權(quán)人：江蘇宏微科技股份有限公司
- 洛迦諾分類(lèi)：無(wú)
- IPC：H01L29/78,H01L29/423,H01L21/336,H01L21/28
- 優(yōu)先權(quán)：無(wú)
- 專(zhuān)利代理機(jī)構(gòu)：常州市維益專(zhuān)利事務(wù)所 32211
- 代理人：賈海芬
- 審查員：無(wú)
- 國(guó)際申請(qǐng)：無(wú)
- 國(guó)際公開(kāi)(公告)：無(wú)
- 進(jìn)入國(guó)家日期：無(wú)
- 分案申請(qǐng)：無(wú)
關(guān)鍵詞
多晶硅柵,摻雜,絕緣介質(zhì)層,柵氧化層,多晶硅,有源,最佳性能狀態(tài),功率晶體管,電流溝道,焊接區(qū)域,金屬引線(xiàn),金屬層,引線(xiàn)孔,連接,雙柵,隔離,分割,延伸
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