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光刻機(jī)和芯片有什么關(guān)系 光刻機(jī)和芯片哪個(gè)更難

摘要:光刻機(jī)和芯片有什么關(guān)系?在芯片制造過程中是離不開光刻機(jī)的,光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備,芯片的集成水平取決于光刻機(jī)的精度。光刻機(jī)和芯片哪個(gè)更難?都很難的,不過光刻機(jī)難度最大,目前我國只能自主量產(chǎn)90納米光刻機(jī),與荷蘭的差距還很大。

一、光刻機(jī)和芯片有什么關(guān)系

光刻機(jī)又被稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī),在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步,所以光刻機(jī)又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備,總得來說光刻機(jī)是用來制造芯片的。

光刻機(jī)是光刻技術(shù)的載體,而光刻技術(shù)是芯片技術(shù)的重要部分,光刻機(jī)的原理就是用光把圖案投射到硅片上。如果想要自主生產(chǎn)芯片,光刻機(jī)是必要的,就像工業(yè)中的機(jī)床一樣。

光刻機(jī)與芯片存在著密不可分的關(guān)系。芯片與光刻機(jī)的關(guān)系,就好比是魚和水。沒了光刻機(jī),再高端的芯片技術(shù)也只能停留在理想層面。目前,世界最高端的光刻機(jī)來自荷蘭,相信不久之后中國也能擁有獨(dú)立自主的光刻機(jī)技術(shù)。

二、光刻機(jī)和芯片哪個(gè)更難

都很難的。因?yàn)樾酒瑥脑O(shè)計(jì)到生產(chǎn)制造都是一個(gè)復(fù)雜工藝,目前國內(nèi),芯片設(shè)計(jì)軟件和生產(chǎn)核心光刻機(jī)都是國外的。不過光刻機(jī)難度最大,因?yàn)樵俸玫脑O(shè)計(jì)也需要做出來才能算成功,而且還要保持良品率。

以我們掌握程度為難易判斷標(biāo)準(zhǔn),我們掌握了就不算難,沒掌握的就算難。

芯片設(shè)計(jì),手機(jī)通信我們有華為,中興,展銳等。通用桌面服務(wù)器有龍芯,華為,申威等。我們已經(jīng)具有完整的正向設(shè)計(jì)能力,部分芯片設(shè)計(jì)已經(jīng)接近頂尖水平,差距一代不到。

芯片制造,中芯國際量產(chǎn)14納米,有望突破7納米。華虹半導(dǎo)體也已經(jīng)初步量產(chǎn)14納米。跟最先進(jìn)的臺積電和三星半導(dǎo)體比還有很大的差距,差距一代多。

光刻機(jī),我們可以完全自主量產(chǎn)90納米光刻機(jī)。現(xiàn)在最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)只有荷蘭ASML能夠供貨,我們跟ASML差了三代。根據(jù)公開信息,我們28納米光刻機(jī)關(guān)鍵部件已經(jīng)全部完成攻關(guān),今年底有望出整機(jī)樣機(jī),兩年內(nèi)量產(chǎn)。28納米現(xiàn)在世界上有兩個(gè)國家量產(chǎn),荷蘭和日本。我們今年如果能夠踏入這個(gè)陣營,差距縮小到一代。

綜合起來,光刻機(jī)差距現(xiàn)在最大,是最難的。但不管什么技術(shù),只要持續(xù)不斷的投入,不被眼前的困難嚇倒,培養(yǎng)人才梯隊(duì),追趕和超越是遲早的。

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