一、硅片清洗工藝步驟有哪些

吸附在硅片表面上的雜質(zhì)可分為分子型、離子型和原子型三種情況。其中分子型雜質(zhì)與硅片表面之間的吸附力較弱，清除這類雜質(zhì)粒子比較容易。它們多屬油脂類雜質(zhì)，具有疏水性的特點，對于清除離子型和原子型雜質(zhì)具有掩蔽作用。

因此在對硅片進行化學(xué)清洗時，首先應(yīng)該把它們清除干凈。離子型和原子型吸附的雜質(zhì)屬于化學(xué)吸附雜質(zhì)，其吸附力都較強。

在一般情況下，原子型吸附雜質(zhì)的量較小，因此在化學(xué)清洗時，先清除掉離子型吸附雜質(zhì)，然后再清除殘存的離子型雜質(zhì)及原子型雜質(zhì)。

最后用高純?nèi)ルx子水將硅片沖冼干凈，再加溫烘干或甩干就可得到潔凈表面的硅片。

綜上所述，清洗硅片的一般工藝程序為：去分子→去離子→去原子→去離子水沖洗。另外，為去除硅片表面的氧化層，常要增加一個稀氫氟酸浸泡步驟。

二、硅片清洗后有水印怎么辦

1、沖洗不干凈，可以拿一些干凈的硅片再重新清洗一次，不要過清洗劑槽，看是否有水印出現(xiàn)，若無，則是清洗劑的問題，調(diào)整即可。

2、烘干不夠，將硅片在進入烘干通道前取出甩干或吹干，看是否有水印，如無，則是加大烘干通道的力度。

3、水中雜質(zhì)含量過高，造成不易清洗，清除水中的雜質(zhì)即可。