一、蝕刻機(jī)的基本概念
蝕刻機(jī)是一種通過化學(xué)或物理手段，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、玻璃等材料表面進(jìn)行選擇性“去除”，以形成特定圖案或結(jié)構(gòu)的工業(yè)設(shè)備。根據(jù)蝕刻原理的差異，主流蝕刻機(jī)可分為兩類：
1、化學(xué)蝕刻機(jī)：依賴蝕刻液（如酸性溶液、堿性溶液）與材料表面的化學(xué)反應(yīng)，溶解不需要的部分。
2、物理蝕刻機(jī)（又稱干法蝕刻機(jī)）：通過等離子體、激光等物理能量轟擊材料表面，剝離目標(biāo)區(qū)域，常見類型為等離子蝕刻機(jī)。
其適用材料覆蓋銅、鋁、硅、玻璃等，廣泛用于精密制造領(lǐng)域，核心作用是實(shí)現(xiàn)“按需塑形”，滿足產(chǎn)品對(duì)微觀結(jié)構(gòu)或表面圖案的精度要求。
二、蝕刻機(jī)的工作原理
無論是化學(xué)蝕刻還是物理蝕刻，其工作流程均遵循“預(yù)處理→蝕刻→后處理”的核心邏輯，具體步驟如下：
（一）預(yù)處理：確保蝕刻精度的基礎(chǔ)
預(yù)處理的核心目標(biāo)是去除材料表面雜質(zhì)，保證蝕刻的均勻性與圖案準(zhǔn)確性，主要包括3個(gè)環(huán)節(jié)：
1、清洗：用去離子水、有機(jī)溶劑（如乙醇）或堿性清洗劑，清除材料表面的油污、灰塵、氧化層（如金屬表面的氧化膜），避免雜質(zhì)影響蝕刻液或物理能量與材料的接觸；
2、涂覆保護(hù)層（又稱“掩膜”）：在材料表面涂覆具有抗蝕刻性的涂層（如光刻膠、金屬掩膜），再通過光刻、激光雕刻等方式，將預(yù)設(shè)圖案轉(zhuǎn)移到保護(hù)層上——露出需要蝕刻的區(qū)域，遮擋無需蝕刻的部分（這一步是“選擇性蝕刻”的關(guān)鍵）；
3、烘干/固化：對(duì)涂覆后的保護(hù)層進(jìn)行加熱（如80-120℃烘干）或紫外線照射，增強(qiáng)其附著力與抗蝕刻能力，防止蝕刻過程中保護(hù)層脫落導(dǎo)致圖案變形。
（二）蝕刻操作：實(shí)現(xiàn)材料去除的核心環(huán)節(jié)
根據(jù)蝕刻機(jī)類型不同，此環(huán)節(jié)的工作原理存在差異：
1、化學(xué)蝕刻機(jī)的工作原理
第一步：將預(yù)處理后的材料放入蝕刻槽，蝕刻液（如蝕刻銅的FeCl?溶液、蝕刻鋁的NaOH溶液）與材料暴露區(qū)域充分接觸。
第二步：發(fā)生化學(xué)反應(yīng)——蝕刻液中的活性離子（如Fe3?、OH?）與材料原子（如Cu、Al）反應(yīng)，生成可溶于蝕刻液的化合物（如CuCl?、NaAlO?）。
第三步：動(dòng)態(tài)控制蝕刻過程——通過攪拌蝕刻液、調(diào)節(jié)溫度（如25-50℃，溫度升高可加快反應(yīng)速度）、控制蝕刻時(shí)間（根據(jù)圖案深度要求設(shè)定，通常幾秒至幾十分鐘），確保蝕刻深度均勻、圖案邊緣整齊。
第四步：中途檢測(cè)——部分設(shè)備配備光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)，實(shí)時(shí)觀察蝕刻進(jìn)度，避免過度蝕刻或蝕刻不足。
2、物理蝕刻機(jī)（以等離子蝕刻機(jī)為例）的工作原理
第一步：將材料放入密封的真空反應(yīng)腔，通入蝕刻氣體（如刻蝕硅的CF?、刻蝕金屬的Ar）。
第二步：電離產(chǎn)生等離子體——通過射頻電源施加電場(chǎng)，使蝕刻氣體電離，形成包含正離子、電子、自由基的等離子體（呈電中性，具有高活性）。
第三步：物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)結(jié)合——在電場(chǎng)作用下，等離子體中的正離子高速轟擊材料暴露區(qū)域，將材料原子“濺射”剝離（物理作用）；同時(shí)，自由基與材料原子反應(yīng)生成揮發(fā)性化合物（如SiF?），被真空泵排出（化學(xué)輔助作用）。
第四步：精準(zhǔn)控制——通過調(diào)節(jié)射頻功率（控制離子轟擊能量）、氣體流量（控制蝕刻速率）、真空度（保證等離子體穩(wěn)定性），實(shí)現(xiàn)納米級(jí)精度的蝕刻（適用于半導(dǎo)體芯片等高精度場(chǎng)景）。
（三）后處理：完成蝕刻成品的收尾
蝕刻操作結(jié)束后，需通過后處理確保材料性能與外觀，主要步驟包括：
1、脫膜：用脫膜劑（如化學(xué)蝕刻的酸性脫膜液、物理蝕刻的等離子灰化）去除材料表面的保護(hù)層，露出蝕刻形成的圖案或結(jié)構(gòu)。
2、二次清洗：用去離子水沖洗材料表面殘留的蝕刻液、脫膜劑，避免化學(xué)物質(zhì)殘留導(dǎo)致材料腐蝕（如金屬材料生銹）。
3、干燥與檢測(cè)：通過熱風(fēng)烘干或真空干燥去除水分，再通過尺寸測(cè)量、外觀檢測(cè)（如顯微鏡觀察）、性能測(cè)試（如半導(dǎo)體的電學(xué)性能），篩選合格產(chǎn)品。
